半导体化学品
半导体化学品主要包括蚀刻液、剥离液、高纯试剂、清洗液、冷却液和含氟功能材料等系列产品，应用于显示面板、IC集成电路领域，是生产制程中的光刻、显影、蚀刻、剥离、清洗等制造工艺的关键化学品材料，对芯片的良率提升、显示面板画质的清晰度等起着重要的作用。
新宙邦凭借二十余年深耕精细电子化学品的经验积累，依靠高品质的产品和完善的质量管理体系赢得了客户信任，公司相关产品的纯度、金属杂质含量、颗粒数量和粒径、品质一致性、稳定性均满足要求，并且稳定供应行业客户。
未来新宙邦将充分利用自身技术、资源、地域等优势，不断完善生产基地的布局，持续提升产品研发和自主创新的能力，更好的为行业和客户创造价值，提供优质的产品和服务。
产品系列
高纯化学品主要用于晶圆清洗、光刻、腐蚀等工序中，主要产品有双氧水、氨水、硫酸、异丙醇、氟化铵等，高纯度、高洁净度、少金属杂质，成熟稳定。
特性
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高纯度
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高洁净度
用途
芯片
物联网
智能家居
数字基建
冷却液主要用于晶圆制造的机台冷却，高效、不可燃，环境友好，性价比高，稳定性好。清洗液主要用于晶圆制造、封装，OLED等制程中的清洗工艺，能去除晶圆、OLED表面杂质和蚀刻后残留物质，保证产品的洁净度。
特性
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高效
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环境友好
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稳定性好
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可定制
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长寿命
用途
半导体机台设备
芯片
数字基建
云计算
智能手机
车载显示屏幕
前驱体是半导体集成电路制程薄膜沉积必不可少的关键材料， 常用于原子沉积( ALD ) 和化学气相沉积( MOCVD ) 工艺， 主要包含硅前驱体和金属前驱体，常用于High-K介电层、栅极侧壁等应用场景。具备优异电学性和工艺兼容性，保障器件的良率与高性能。
特性
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高纯
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高沉积速率
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低沉积温度
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沉积均匀性优异
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台阶覆盖率优异
用途
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芯片
光配向剂是一种光学取向材料，通过光照射在聚合物膜上引发各向异性，从而实现液晶分子的定向排列。光配向技术采用非接触式取向方式，具有高效、稳定性优异等特点。该技术可实现长时间稳定驱动，满足不同产品的残影（IS）性能需求；同时支持边缘直线涂布，优化显示面板的窄边框设计；此外，其单层膜穿透率可达95%以上，并具备高纯度、低金属杂质等特性，确保产品的高品质表现。
特性
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高稳定性
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高印刷性
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高透过率
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超高品质
用途
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液晶显示面板
蚀刻液系列产品主要用于蚀刻制程，将光刻胶上的微图形转移到光刻胶下面的各层材料上。性能优异、长寿命、安全。
特性
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长寿命
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高安全
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定制化解决方案
用途
手机屏幕
液晶电视
车载显示屏幕
其他穿戴设备显示屏
剥离液系列产品主要用于平板显示面板制造Array工艺中光刻胶剥离。产品性能优异，安全环保，可根据不同应用需求定制化开发。
特性
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安全环保
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性能优异
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定制化解决方案
用途
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手机屏幕
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LED电视
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车载显示屏幕
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其他穿戴设备显示屏
